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热等静压机

设备型号：FPW6SD

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箱式炉

设备型号：DC-B

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热等静压

热等静压工艺是将样品放置到密闭的容器中，向样品施加各向同等的压力，同时施以高温，在高温高压的作用下，制品得以烧结和致密化

设备型号：

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样品热处理

具有多台套科晶热处理炉，控温精准，可进行氮气、氩气等惰性气氛热处理。

设备型号：

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小型冷轧机

小型薄板精轧机，适合轧制强度不高的薄板类试样，实验室级别的冷轧工艺探索；

设备型号：MSK-5070-AC

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放电等离子烧结

日本进口最新第五代放电等离子烧结炉，小型实验机型LABOX-325R，最大电流2500A、最大压力30kN，适用直径10~30mm，常用最高温度2000°C的烧结（温度和尺寸呈反比例对应关系）。升温速率最高500°C/min，大部分材料常用100°C/min。

设备型号：LABOX-325R

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热压烧结

本设备为石墨加热，适用于金属粉末，无机非金属材料等在真空（或者保护气氛），高温热压下进行烧结。

设备型号：ZT-75-21Y

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行星式球磨机

行星式球磨机主要是是混合、细磨、小样制备、纳米材料分散、新产品研制和小批量生产高新技术材料的重要装置。

设备型号：YXQM-2L

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磁控溅射

可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

设备型号：

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超高真空磁控镀膜系统

多基片批量镀膜：配备多工位旋转基片台，可实现单批次4-24片（依规格而定）样品同时镀膜.可搭载4个不同材质靶材，支持直流（DC）、射频（RF）。

设备型号：

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高真空电弧熔炼炉

高真空电弧熔炼炉是一种在高真空或惰性气体保护环境下，利用电弧产生的高热量来熔炼金属的特种冶金设备。该设备熔炼的合金置于水冷铜坩埚内，炉内的气氛为高纯惰性气体，因此熔炼过程中的污染极小，是实验室熔炼合金，尤其是高熔点和活泼金属合金的理想设备。

设备型号：DHL-1250

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超高真空高温热处理

超高真空热处理炉是一种采用钨网作为发热元件的真空高温炉，主要用于材料烧结、热处理、超纯金属制备等。为材料的合成、纯化、改性及本征物性研究提供了一个近乎“绝对纯净”与“极端可控”的极端条件平台。

设备型号：RGW2200-12S

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