·设备型号：VTC-600GD-4HD

·样品台尺寸：Φ140mm

·样品台转速：转速：1~20rpm

·加热范围：室温-1200℃

·溅射功率：DC/RF 0-500W

·靶材尺寸：Φ50mm，厚度0.1-6mm

·样品尺寸要求：基底直径最大为140mm，厚度最大30mm

·样品制备要求：表面清洁、平整、无油污等污染物；基底提前抛光，表面需无明显划痕、油污、氧化层及粉尘；若为金属/半导体基片，需提前进行酸洗或等离子清洗预处理。

靶材：尺寸为Φ50mm，厚度0.1-6mm（根据实验而定），靶材成分可根据实验要求自行定制，满足尺寸要求即可

1.可按照客户指定工艺参数进行样品制备

2.可以目的为导向进行工艺参数摸索，最终获得符合要求的样品

3.费用以具体沟通为准