·设备型号：3MV 串列加速器

·离子种类：H、He、C、Si、Ni、Cu、Au 等

·可测元素：B-U（轻衬底上的重元素）

·真空度：＜1.5×10-4Pa

·深度分辨率：20nm~200nm（取决于实验参数）

·分析特点：可直接分析元素的绝对含量，无需标样

·分辨率： 0.1%~1%

·样品尺寸要求：直径≤20mm，厚度不超过3mm

·样品制备要求：样品表面清洁、平整、无油污、

粉尘等污染物。

·其他要求：样品多为磁控溅射镀膜或离子注入技术制备